海得漢旗下ETEL推出METIS HP高精度全氣浮平面平臺，專為直接激光寫入與高分辨率光學(xué)檢測等嚴(yán)苛半導(dǎo)體步進(jìn)掃描應(yīng)用設(shè)計(jì)。該平臺結(jié)合卓越的速度穩(wěn)定性、出色的動態(tài)直線度及投影工具點(diǎn)測量能力，進(jìn)一步鞏固其在高精度運(yùn)動控制領(lǐng)域的領(lǐng)先地位。

METIS HP的核心采用多自由度（mDoF）海得漢編碼器，確保測量精度不受熱漂移影響，并支持投影工具點(diǎn)測量功能。其控制器可模擬晶體管-晶體管邏輯（TTL）位置信號作為觸發(fā)事件，為觸發(fā)器生成提供極具吸引力的替代方案。該設(shè)計(jì)無需在滑架上額外安裝反射鏡，避免了空氣透鏡效應(yīng)與氣流擾動，同時(shí)降低了系統(tǒng)成本。

在性能方面，METIS HP在完整XY行程經(jīng)映射校正后精度可達(dá)±150 nm，Zui高1 m/s運(yùn)行速度下的動態(tài)直線度同樣保持在±150 nm，動態(tài)加速度Zui高達(dá)20 m/s2。這些指標(biāo)有效縮短了往返時(shí)間，從而提升步進(jìn)掃描應(yīng)用的設(shè)備吞吐量。

針對先進(jìn)封裝所需的高速焦距調(diào)整，該平臺配備高帶寬4自由度模塊，可對Z軸、俯仰、傾斜和Theta軸進(jìn)行精細(xì)控制。產(chǎn)品支持Zui大600 mm × 600 mm的面板尺寸，以滿足下一代無掩模光刻對大面積基板的日益增長需求。ETEL產(chǎn)品經(jīng)理Stéphane Pellegrini指出，METIS HP提供了先進(jìn)光學(xué)工藝所需的軌跡質(zhì)量，即使在高速掃描下也能保持性能一致。

資料來源：Metrology and News - Online Magazine；原文發(fā)布日期：2026-10-16。本文為資料編譯。