荷語魯汶大學（KU Leuven）、韓國群山國立大學、布魯塞爾自由大學（VUB）及imec等研究團隊于2026年10月在《ACS Applied Materials & Interfaces》發(fā)表論文，報道了一種完全通過干法工藝沉積的鹵化無定形沸石咪唑酯骨架（a-ZIF）金屬有機光刻膠。該材料在極紫外（EUV）與電子束（E-Beam）曝光條件下，呈現出顯著的光源依賴性線型轉換（tone conversion）行為。

干法沉積金屬有機光刻膠被視為下一代半導體先進圖形化工藝的關鍵使能技術。研究指出，全干法制備的a-ZIF光刻膠避免了傳統濕法工藝的溶劑殘留問題，其線型轉換特性隨輻照源類型發(fā)生明顯變化，為電子束與極紫外光刻的差異化工藝開發(fā)提供了新材料基礎。

資料來源：Semiconductor Engineering；原文發(fā)布日期：2026-10-25。本文為資料編譯。