作為半導體制造設備內(nèi)部的保護性涂層，半導體干蝕設備內(nèi)部暴于高反應性鹵素或氧系電漿。
若非耐電漿材料元件(如，石英玻璃、氧化鋁和陽極化的鋁)以原本狀態(tài)使用，則會發(fā)生表面腐蝕而伴隨著生成粒子，其造成半導體上之微觀電路的缺陷。
因此，于半導體制造設備之待外露的表面提供用以賦予抵御電漿的耐蝕性和保護設備之元件的保護性涂層。
此保護性涂層之一是對于種類繁多的電漿展現(xiàn)耐蝕性的氟氧化釔。
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