主要技術內容

基本原理

通過前沿陡峭、脈寬窄（納秒級）的高壓脈沖電暈放電，在常溫常壓下獲得非平衡等離子體，即產生大量高能電子、02、02-、02+、O、O2H等活性粒子（稱其為“活性氧”），對有機物分子進行氧化降解反應，使污染物zui終轉化為沒害物。

活性氧（AOE）技術利用上述原理，產生高密度的高能活性氧（AO），迅速與有機廢氣和惡臭中的污染物進行碰撞、激或并直接破壞污染物，發(fā)生一系列鏈式反應，將污染物降解成二氧化碳和水以及其他小分子。

光催化技術也是一種新型的復合納米高科技功能的技術，其原理是利用光催化納米粒子在一定的波長的光線照射下受到激發(fā)生成電子一空穴對，空穴分解催化劑表面吸附的水產生氫氧自由基，電子使其周圍的氧還原成活性離子氧，從而具備極強的氧化一還原作用，將光催化表面的各種污染物摧毀。

新型的等離子復合技術即將上述兩種技術在某種條件下進行耦合，充分發(fā)揮各自的點，并發(fā)生協(xié)同應，從而進一步空氣凈化率。

技術關鍵

1．高穩(wěn)定性、長壽命納米催化觸媒材料和納米波長電光源的研制；

2．材料和加工工藝的確定；

3．PIC控制系統(tǒng)的反饋設計，廢氣濃度和等離子體放電參數(shù)的算法；

4．反應室結構的化設計，脈沖電源與反應器的匹配，整機結構和工藝參數(shù)的匹配。

典型規(guī)模

惡臭氣體處理風量500m3/h以上。

主要技術指標及條件

技術指標

電源參數(shù)：高壓脈沖電源：其平均功率高于1 kW，率不低于80％，峰值電壓3～5 kV，壽命不少于109次脈沖，脈沖前沿小于1ms，紫外光源波長為253 nm。

活性氧離子數(shù)：不小于1．O×106個／cm3。

凈化率：在2～10 mg／m3濃度范圍內，H2S去除率大于90％，氨氣去除率大于90％；在1～2mg／m3濃度范圍內，甲ben去除率大于85％，苯去除率大于85％；在1 h范圍內，細菌去除率達到90％以上。

性能參數(shù)：臭氧濃度小于0．2 mg／m3。

運行參數(shù)：噪聲小于65 dB（A），能耗不大于0．05kW·h／m3，抗電強度承受3 750 V電壓不擊穿。

主要設備及運行管理

主要設備

離心風機、過濾器、AOE設備、光催化單元、控制系統(tǒng)、離心風機、AOE控制器、AOE發(fā)射電源、光催化單元起停、運行顯示和熔斷保險。