我公司可生產(chǎn)多弧離子、磁控濺射真空鍍膜靶材。真空鍍膜靶材產(chǎn)品分三大系列：鈦系列（ta0、ta1、ta2）；合金系列：（tial,ticr）；稀有金屬系列：鉬靶、鎢靶、鉭靶、鈮靶、鋯靶、鉻靶、鎳靶等。靶材規(guī)格有：圓柱靶、板靶、管靶、異型靶材等，還可按客戶的要求訂制各種合金材料靶材及高純金屬靶材。如下（僅列幾張）：

鈦圓靶牌號：ta0、ta1、ta2 規(guī)格：φ（60-150）*l 主要用于真空離子鍍膜

鈦板靶 牌號：ta0、ta1規(guī)格：δ（6-30）*300*l 主要用于玻璃鍍膜行業(yè)

鈦管靶牌號：ta0、ta1規(guī)格：φ（50-150）*l主要用于真空濺射鍍膜

鋯圓靶 牌號：zr規(guī)格：φ（60-100）*l 主要用于真空離子鍍膜

鈦鋁圓靶牌號：tial規(guī)格：φ（60-100）*l 主要用于真空離子鍍膜