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應用領域
型號
特性
半導體
NR9-PY
用于lift-off工藝，高黏附性、高效，耐高溫
NR71-PY
用于lift-off工藝，高溫，可作為間隔材料
NR9-P
高黏附性，適用于電鍍和濕法刻蝕
NR71-P
做掩膜，適用于干法刻蝕，可作為間隔材料
NR21-P
100um的膜厚，具有良好的分辨率
NR5
可作厚膜掩膜，適用于離子刻蝕
PR1
耐高溫，用于一般圖案的正性光刻膠，離子刻蝕，濕法刻蝕
IC1/DC5
濾波等電解質(zhì)材料
PC3
平坦化，臨時黏附及機械保護
BDC1/PDC1/ZPDC1
摻雜工藝
太陽能
BDC1
摻硼材料
PDC1
摻磷材料
NR71/NR9-PY
用于lift-off工藝，高黏附性、高效，耐高溫/做間隔材料
NR9-P
高黏附性，適用于電鍍和濕法刻蝕
LED/OLED/HBLED
NR9-PY
用于lift-off工藝，高黏附性、高效，耐高溫
NR71-P
做掩膜，適用于干法刻蝕，可作間隔材料
IC1
濾波等電解質(zhì)材料
MEMS
NR9-P
高黏附性，適用于電鍍和濕法刻蝕
NR5/NR71
可作厚膜掩膜，適用于離子刻蝕/做掩膜，可作間隔材料
NR2
可實現(xiàn)120um膜厚，6：1深寬比的圖案，適用于電鍍、濕法刻蝕
NR71/NR9-PY
用于lift-off工藝，高黏附性、高效，耐高溫/做間隔材料
PC3
平坦化，臨時黏附及機械保護
IC1
濾波等電解質(zhì)材料
微流體與生物芯片
NR71-P
做掩膜，適用于干法刻蝕，可作間隔材料
NR2
可實現(xiàn)120um膜厚，6：1深寬比的圖案，適用于電鍍、濕法刻蝕
NR5
可作厚膜掩膜，適用于離子刻蝕
光電子
NR71/NR9-PY
用于lift-off工藝，高黏附性、高效，耐高溫/做間隔材料
NR71-P
做掩膜，適用于干法刻蝕，可作間隔材料
PR1
刻蝕制程中的正性光刻膠，適用于噴涂和輥涂
NR9-P
高黏附性，適用于電鍍和濕法刻蝕
NR2-P
可實現(xiàn)100um膜厚的凹凸圖案，分辨率好，易于去膠
封裝
NR2-P
可實現(xiàn)100um膜厚的凹凸圖案，分辨率好，易于去膠
NR5
可作厚膜掩膜，適用于離子刻蝕
PR1
刻蝕制程中的正性光刻膠，適用于噴涂和輥涂
平坦化
PC3
平坦化，臨時黏附及機械保護
圖案印刷
PR1
刻蝕制程中的正性光刻膠，適用于噴涂和輥涂
NR9
增強了黏附性，適用于噴涂和輥涂
顯影液
RD6
顯影時間短，適用于正、負性光刻膠，
去膠液
RR41/RR5
可以安全、高效的去除光刻膠及臨時涂層，適用于多種襯底材料
邊膠清洗液
EBR2
高效、快速的邊膠去除
半導體光刻膠，電子級蝕刻液，顯影液去膠液，半導體化學試劑，UV燈管
五金產(chǎn)品批發(fā)；電氣設備批發(fā)；計算機、軟件及輔助設備批發(fā)；通訊及廣播電視設備批發(fā)；非金屬礦及制品批發(fā)（不含危險化學品和監(jiān)控化學品）；金屬及金屬礦批發(fā)（不含危險化學品和監(jiān)控化學品）；建材批發(fā)；化肥批發(fā)；其他化工產(chǎn)品批發(fā)（不含危險化學品和監(jiān)控化學品）；貿(mào)易代理；其他貿(mào)易經(jīng)紀與代理；經(jīng)營各類商品和技術的進出口（不另附進出口商品目錄），但國家限定公司經(jīng)營或禁止進出口的
主營業(yè)務：顯影液、漂洗液、光刻膠、聚酰亞胺、冰箱儲存、化學試劑、國產(chǎn)試劑、半導體材料、電子專用材料、銳材表面活性劑美國PTI粉塵，日本JIS粉塵，德國DMT粉塵，美國AATCC測試用，英國SDC,JAMESH,日本測試用品，理美國PTI公司雜質(zhì)顆粒尺寸分析試驗、檢測設備及各種試驗粉塵。代理德國DMT公司的符合IEC 60312標準的試驗粉塵。 同時，公司還代理進口日本JIS標準試驗粉塵。 滿足國內(nèi)汽車零部件、纖，電子等行業(yè)企業(yè)的實驗室以...