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側(cè)蝕問(wèn)題是蝕刻參數(shù)中常常被提出來(lái)談?wù)摰囊豁?xiàng),它被定義為側(cè)蝕寬度與蝕刻深度之比,稱為蝕刻因子。在印刷電路工業(yè)中,它的改動(dòng)規(guī)劃很廣泛,從1:1到1:5。明顯,小的側(cè)蝕度或低的蝕刻因子是Zui令人滿意的。
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