美國(guó)Futurrex光刻膠PC3-交換鄰居波多野結(jié)衣中文字幕メイリン モデルコレクション メ|色情亂倫視電影無恥混蛋メイリン モデルコレクション メイ
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平坦化,臨時(shí)黏附及機(jī)械保護(hù) | ||
IC1 | 濾波等電解質(zhì)材料 | |
微流體與生物芯片 | NR71-P | 做掩膜,適用于干法刻蝕,可作間隔材料 |
NR2 | 可實(shí)現(xiàn)120um膜厚,6:1深寬比的圖案,適用于電鍍、濕法刻蝕 | |
NR5 | 可作厚膜掩膜,適用于離子刻蝕 | |
光電子 | NR71/NR9-PY | 用于lift-off工藝,高黏附性、高效,耐高溫/做間隔材料 |
NR71-P | 做掩膜,適用于干法刻蝕,可作間隔材料 | |
PR1 | 刻蝕制程中的正性光刻膠,適用于噴涂和輥涂 | |
NR9-P | 高黏附性,適用于電鍍和濕法刻蝕 | |
NR2-P | 可實(shí)現(xiàn)100um膜厚的凹凸圖案,分辨率好,易于去膠 | |
封裝 | NR2-P | 可實(shí)現(xiàn)100um膜厚的凹凸圖案,分辨率好,易于去膠 |
NR5 | 可作厚膜掩膜,適用于離子刻蝕 | |
PR1 | 刻蝕制程中的正性光刻膠,適用于噴涂和輥涂 | |
平坦化 | PC3 | 平坦化,臨時(shí)黏附及機(jī)械保護(hù) |
圖案印刷 | PR1 | 刻蝕制程中的正性光刻膠,適用于噴涂和輥涂 |
NR9 | 增強(qiáng)了黏附性,適用于噴涂和輥涂 | |
顯影液 | RD6 | 顯影時(shí)間短,適用于正、負(fù)性光刻膠, |
去膠液 | RR41/RR5 | 可以安全、高效的去除光刻膠及臨時(shí)涂層,適用于多種襯底材料 |
邊膠清洗液 | EBR2 |
美國(guó)Futurrex光刻 , PC3
半導(dǎo)體光刻膠,電子級(jí)蝕刻液,顯影液去膠液,半導(dǎo)體化學(xué)試劑,UV燈管
五金產(chǎn)品批發(fā);電氣設(shè)備批發(fā);計(jì)算機(jī)、軟件及輔助設(shè)備批發(fā);通訊及廣播電視設(shè)備批發(fā);非金屬礦及制品批發(fā)(不含危險(xiǎn)化學(xué)品和監(jiān)控化學(xué)品);金屬及金屬礦批發(fā)(不含危險(xiǎn)化學(xué)品和監(jiān)控化學(xué)品);建材批發(fā);化肥批發(fā);其他化工產(chǎn)品批發(fā)(不含危險(xiǎn)化學(xué)品和監(jiān)控化學(xué)品);貿(mào)易代理;其他貿(mào)易經(jīng)紀(jì)與代理;經(jīng)營(yíng)各類商品和技術(shù)的進(jìn)出口(不另附進(jìn)出口商品目錄),但國(guó)家限定公司經(jīng)營(yíng)或禁止進(jìn)出口的
主營(yíng)業(yè)務(wù):顯影液、漂洗液、光刻膠、聚酰亞胺、冰箱儲(chǔ)存、化學(xué)試劑、國(guó)產(chǎn)試劑、半導(dǎo)體材料、電子專用材料、銳材表面活性劑美國(guó)PTI粉塵,日本JIS粉塵,德國(guó)DMT粉塵,美國(guó)AATCC測(cè)試用,英國(guó)SDC,JAMESH,日本測(cè)試用品,理美國(guó)PTI公司雜質(zhì)顆粒尺寸分析試驗(yàn)、檢測(cè)設(shè)備及各種試驗(yàn)粉塵。代理德國(guó)DMT公司的符合IEC 60312標(biāo)準(zhǔn)的試驗(yàn)粉塵。 同時(shí),公司還代理進(jìn)口日本JIS標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)粉塵。 滿足國(guó)內(nèi)汽車零部件、纖,電子等行業(yè)企業(yè)的實(shí)驗(yàn)室以...